氧化硅炉设备

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本发明属于氧化亚硅的技术领域,具体涉及一种化学气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法。背景技术氧化亚硅,也有人直接称为硅氧化物,并用SiOx(0＜x＜2)表示。由于氧化亚硅可提供较大的电池容量和较少的体积膨胀,因此,可用于制备性能优良的锂离子电池负极材料。氧化亚硅简单的制备方式 …...阿里巴巴生产一氧化硅用真空炉 硅片烧结炉 气氛真空炉,实验电炉,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是生产一氧化硅用真空炉 硅片烧结炉 气氛真空炉的详细页面。产地:上海,是否进口: 否,订货号:1901220703,加工定制:是,货号:1901220703 ...

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氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氢氧合成）两种,扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备,它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展...